LeicaEMACE600高真空鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統(tǒng)，用于制備超薄，細(xì)顆粒的導(dǎo)電金屬膜和碳膜，以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。

　　這一款全自動(dòng)臺(tái)式鍍膜儀，包含內(nèi)置式無(wú)油真空系統(tǒng)，石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)（旋轉(zhuǎn)為標(biāo)配，傾斜和高度馬達(dá)驅(qū)動(dòng)為選配）。

　　特點(diǎn)

　　LeicaEMACE600高真空鍍膜儀可以配置如下鍍膜方式:金屬濺射鍍膜、碳絲蒸發(fā)鍍膜、碳棒蒸發(fā)鍍膜（帶有熱阻蒸發(fā)鍍膜選配件）、電子束蒸發(fā)鍍膜輝光放電連接VCT樣品交換倉(cāng)，與徠卡EMVCT配套實(shí)現(xiàn)冷凍鍍膜，冷凍斷裂，雙復(fù)型，冷凍干燥和真空冷凍傳輸

　　適合廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng)：EMACE600濺射鍍膜機(jī)裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。實(shí)現(xiàn)工作流程目標(biāo)，滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)室需求——可在同一個(gè)制備過(guò)程中運(yùn)行兩個(gè)不同的濺射源，還可配置EMACE600用于高級(jí)冷凍工作流程。

　　通過(guò)方便的前門(mén)裝載方法、僅需按下一個(gè)按鈕即可啟動(dòng)的收料即鍍式自動(dòng)化鍍膜過(guò)程，EMACE600可以讓您簡(jiǎn)單可靠地制備常規(guī)樣本并節(jié)省寶貴的時(shí)間。

　　優(yōu)勢(shì)對(duì)扁平或結(jié)構(gòu)化的非導(dǎo)電樣本進(jìn)行高分辨率成像，增強(qiáng)納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或DNA鏈）的對(duì)比度生成透射電鏡(TEM)載網(wǎng)的薄而堅(jiān)固的支撐層，或者為敏感樣本提供保護(hù)層。

　　擴(kuò)展冷凍應(yīng)用中的系統(tǒng)使用EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，皆可實(shí)現(xiàn)。

　　通過(guò)濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜，使用EMACE600高真空鍍膜系統(tǒng)，每次運(yùn)行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。使用收料即鍍的自動(dòng)化濺射鍍膜工藝，滿(mǎn)足優(yōu)良鍍膜所需的適當(dāng)條件并實(shí)現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。

　　可進(jìn)行高達(dá)200kX的高放大倍率掃描電鏡(SEM)分析，具有出色的基礎(chǔ)真空度（<2x10-6mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細(xì)均衡調(diào)整工藝參數(shù)。根據(jù)樣本形態(tài)的需要調(diào)整樣本距離和鍍膜角度。

　　為進(jìn)一步加強(qiáng)鍍膜效果，可以使用Meissner捕集器將真空度提高到10-7mbar，之后再?lài)L試對(duì)氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

　　超薄碳膜碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。它需要具有導(dǎo)電性，但對(duì)電子束透明，并且不能具有顆粒結(jié)構(gòu)。

　　采用自適應(yīng)脈沖方法的EMACE600碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅(jiān)固并具有導(dǎo)電性，還可以通過(guò)烘焙法進(jìn)一步減少污染。最終，這類(lèi)薄膜提供：

　　對(duì)電子的高透明度足以承受電子轟擊的強(qiáng)度均勻的厚度，這對(duì)于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要

　　按需配置EMACE600通過(guò)EMACE600的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺(tái)鍍膜機(jī)運(yùn)行多個(gè)制程。同時(shí)，將濺射頭與優(yōu)良的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個(gè)濺射源，可在一次制備過(guò)程中完成多層金屬鍍膜。

　　采用經(jīng)過(guò)優(yōu)化的帶兩個(gè)斜角端口和一個(gè)旋轉(zhuǎn)臺(tái)的雙源方法，可在整個(gè)100毫米樣本臺(tái)上生成均勻分布的薄膜。

　　有穩(wěn)定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機(jī)濺射源可供選擇為您的EMACE600裝配輝光放電濺射功能：可隨時(shí)在現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)專(zhuān)注于制備過(guò)程的關(guān)鍵部分使用EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，只需按下一個(gè)按鈕即可讓您充滿(mǎn)信心地完成常規(guī)樣本制備。簡(jiǎn)單可靠的工作流程和便捷的標(biāo)準(zhǔn)操作程序讓您能夠?qū)Ｗ⒂陔婄R樣本制備的關(guān)鍵部分。您可以專(zhuān)注于優(yōu)化工作流程，減少自己學(xué)習(xí)操作方法或培訓(xùn)他人使用方法的時(shí)間。

　　通過(guò)前門(mén)安全裝卸敏感樣本基于工作流程的用戶(hù)界面，可快速訪問(wèn)相關(guān)參數(shù)，全程引導(dǎo)式操作。

　　輕量、穩(wěn)定的濺射源，方便日常操作。

　　擴(kuò)展至冷凍工作流程：

　　在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實(shí)驗(yàn)室電鏡實(shí)驗(yàn)?zāi)芰?。將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過(guò)EMVCT500傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)分析。

　　EMACE600提供：

　　用于傳輸冷凍樣本的接口。

　　用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺(tái)。

　　基本型斷裂裝置選擇優(yōu)化配置配置EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)室日常工作需求。

　　有各種樣本支架和樣本臺(tái)可供選擇，例如帶有多達(dá)3個(gè)電動(dòng)軸的3軸樣本臺(tái)或?qū)Ｓ美鋮s臺(tái)?？煽焖俑鼡Q的樣本臺(tái)基片使EMACE600成為多功能工具。

　　旋轉(zhuǎn)投影—使納米級(jí)結(jié)構(gòu)清晰可見(jiàn)以專(zhuān)用小角度旋轉(zhuǎn)投影（LARS）設(shè)置配置EMACE600，可在透射電鏡中對(duì)納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或DNA鏈）成像。EMACE600電子束源與電動(dòng)LARS樣本臺(tái)將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺(tái)幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)掠角入射沉積。用細(xì)粒度鉑層以小角度對(duì)DNA鏈進(jìn)行投影鍍膜，然后添加碳層穩(wěn)定脆性結(jié)構(gòu)，以便在TEM中進(jìn)行分析。